光譜系統微區光譜測量系統

微區透反射光譜量測系統

DETAIL

傳統光纖探頭在進行樣品透射率或反射率量測時，受限於光斑尺寸，最小採樣直徑通常僅能達到 1–2 mm。此限制不僅降低了空間光譜解析能力，也限制了對微小樣品區域的有效分析。為滿足微尺度材料光學特性研究需求，如海光電推出微區透反射光譜量測系統，將光譜分析技術與顯微光學系統深度整合，實現微米級區域的光譜資訊擷取。

本系統採用光纖共焦照明結構，相較於傳統科勒照明方式，共焦照明具有更高的聚焦精度與更小的採樣直徑，可有效提升空間光譜解析度，使系統能針對樣品的細微結構或局部區域進行精確量測。使用者可於顯微視野下選定目標區域，即時取得其反射率或透射率光譜，實現「所見即所得」的光譜分析體驗。

本系統廣泛適用於材料科學、微電子元件、生物組織、化學分析、光學薄膜、半導體晶片等領域，是研究樣品表面均勻性、局部光學特性差異及微結構光譜響應的重要工具，特別適合科研機構、大專院校實驗室及先進材料檢測企業使用。

產品特點
模組化設計：透過於顯微鏡加裝擴充模組即可進行光譜量測，同時亦可依客戶既有顯微鏡客製相對應的檢測模組。
共焦設計：光源光路與光譜儀接收光路採共軸設計，獨特的共焦結構可實現「所見即所得」的量測效果，並有效抑制系統雜散光。
寬光譜量測範圍：搭配如海光電光纖光譜儀，可實現350–1700 nm寬光譜量測。
靈活選配與升級：除透射率及反射率量測外，可依需求擴充特定量測模組，實現透反射、拉曼及螢光多光譜量測。
高精度量測：自動移動平台最小步進可達1μm，可進行微小區域光譜掃描量測。

規格參數

光譜模組
光譜範圍	350–1700 nm
光譜解析度	2–8 nm
空間解析度	12 μm @ 50X 物鏡，最小可達2 μm
感測器	面陣背照式CCD及InGaAs感測器，皆採用TE致冷
顯微模組
物鏡	無限遠長工作距離平場消色差金相物鏡10X、20X、50X，可選配近紅外物鏡
轉換器	內建定位四孔轉換器
CCD成像	900萬畫素彩色相機
載物台（含 Mapping）	行程：80 mm×60 mm；解析度：＜0.05 μm；最高速度：50 mm/s；單向重複定位精度：≤1 μm；雙向重複定位精度：≤2.5 μm；絕對定位精度（10 mm）：≤±2 μm
落射照明系統	12V / 60W 鹵素燈，亮度可調
調焦結構	粗、微調同軸設計，配有限位裝置及鎖定裝置；粗調每圈行程：30 mm；微調手輪刻度值：2 μm

註：光譜範圍及其他規格參數可依客戶實際應用需求客製化。

測試實例

最小採樣光斑

標準反射板反射率光譜

SPF705 濾光片透射率光譜

應用領域

材料科學
本系統可藉由高空間解析度光譜資料擷取，對微米甚至奈米尺度樣品進行精細分析，能高精度分析材料的化學成分、分子結構、晶體結構及薄膜厚度等特性。適用於新型材料、薄膜技術、光電元件，以及鍍膜鏡片等各類光學元件與光學材料的透射率及反射率研究。

Mapping 掃描
微區透反射系統的Mapping掃描是一種高精度分析技術，透過顯微系統將光源聚焦於樣品微小區域，再收集該區域的透射與反射光譜資訊。藉由在樣品表面逐點掃描，可建立整個樣品區域的光譜影像，取得樣品二維或三維光譜分布資訊，進而於微觀尺度量測樣品的透射與反射特性。此技術廣泛應用於材料科學、化學分析、生物醫學、法醫鑑識及環境監測等領域。